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電解處理--去除鍍液金屬雜質(zhì)方法

發(fā)表時(shí)間:2022/04/10 閱讀量:612 來(lái)源: 深圳志成達

  電解處理是大家在電鍍工業(yè)中常用的去除雜質(zhì)的方法。電解處理亦是一個(gè)電鍍過(guò)程,不過(guò)它不是以獲得良好電鍍層為目的,而是以去除雜質(zhì)(或調整鍍液成分含量)為目的。所不同的只是在陰極上不吊掛零件,而是改為吊掛以去除雜質(zhì)而制作的電解板(又稱(chēng)假陰極)。在通電的情況下,使雜質(zhì)在陰極電解板上沉積、夾附或還原成相對無(wú)害的物質(zhì)。在少數情況下,電解去除雜質(zhì)也有在陽(yáng)極上進(jìn)行的,使某些能被氧化的雜質(zhì),在通電的情況下,到達陽(yáng)極上氧化為氣體逸出或變?yōu)橄鄬o(wú)害的物質(zhì)。


  一、電解條件的選擇

  這里所指的電解,目的是要去除鍍液中的雜質(zhì),但是在電解去除雜質(zhì)的同時(shí),往往也伴隨有溶液中主要金屬離子的放電沉積。為了提高去除雜質(zhì)的速率,減慢溶液中主要金屬離子的沉積速率,就要注意電解處理的操作條件。


 ?、?電流密度:電解處理時(shí),以控制多大的電流密度為好,原則上要按照電鍍時(shí)雜質(zhì)起不良影響的電流密度范圍。也就是說(shuō),在電鍍過(guò)程中,若雜質(zhì)的影響反映在低電流密度區,那么電解處理時(shí)應控制在低電流密度下進(jìn)行,假使雜質(zhì)的影響反映在高電流密度區,則應選用高電流密度進(jìn)行電解;如果雜質(zhì)在高電流密度區和低電流密度區都有影響,那么可先用高電流密度電解處理一段時(shí)間,然后再改用低電流密度電解處理,直至鍍液恢復正常。在一般情況下,凡是用低電流密度電解可以去除的雜質(zhì),為了減少鍍液中主要放電金屬離子的沉積,一般都采用低電流密度電解。事實(shí)上,電鍍生產(chǎn)中,多數雜質(zhì)的影響反映在低電流密度區,所以通常電解處理的電流密度控制在0.1A/dm2~0.5A/dm2之間。


 ?、?溫度和pH值:電解處理時(shí)溫度和pH的選擇,原則上也是要根據電鍍時(shí)雜質(zhì)起不良影響較大的溫度和pH范圍。例如鍍鎳溶液中的銅雜質(zhì)和NO3-雜質(zhì),在pH較低時(shí)的影響較大,所以電解去除鍍鎳溶液中的銅雜質(zhì)和NO3-雜質(zhì)時(shí),應選用低pH進(jìn)行電解,在這樣的條件下,去除雜質(zhì)的速率較快。有些雜質(zhì)在電解過(guò)程中會(huì )分解為氣體(如NO3-在陰極上還原為氮氧化物或氨,Cl-在陽(yáng)極上氧化為Cl2,等,這時(shí)就應選用高溫電解,使電解過(guò)程中形成的氣體揮發(fā)逸出(氣體在溶液中的溶解度,一般隨溫度升高而降低),從而防止它溶解于水而重新沾污鍍液。


  按照一般規律,隨著(zhù)鍍液溫度的升高,電解去除雜質(zhì)的速率也增大,所以當加溫對鍍液主要成分沒(méi)有影響時(shí),電解處理宜在加溫下進(jìn)行。但究竟以控制在什么溫度為好,最好通過(guò)小試驗確定。


 ?、?攪拌:電解處理既然是依靠雜質(zhì)在陰極(或陽(yáng)極)的表面上反應而被除去,那么就應創(chuàng )造條件,使雜質(zhì)與電極表面有充分的接觸機會(huì )。攪拌可以加速雜質(zhì)運動(dòng),使它與電極的接觸機會(huì )增多,所以為了提高處理效果,電解時(shí)應攪拌鍍液。


  二、電解處理的要求

 ?、?首先要查明有害雜質(zhì)是否來(lái)源于電解過(guò)程:電解處理可以去除某些雜質(zhì),但有時(shí)也會(huì )產(chǎn)生雜質(zhì)。例如有害雜質(zhì)來(lái)源于不純的陽(yáng)極,電解處理時(shí)仍用這種陽(yáng)極,那么隨著(zhù)電解過(guò)程的進(jìn)行,雜質(zhì)會(huì )越積越多;又如雜質(zhì)來(lái)源于某些化合物在電極上的分解,那么電解將使這類(lèi)分解產(chǎn)物逐漸增多。這樣的電解處理,不但不能凈化鍍液,反而會(huì )不斷加重鍍液的污染。因此,在電解處理前,要進(jìn)行必要的檢查,預防處理過(guò)程中產(chǎn)生有害雜質(zhì)。


  電解用的陰極(假陰極)面積要盡可能大:用電解法去除雜質(zhì),大多是在陰極表面上進(jìn)行的,所以增大陰極面積,可以提高去除雜質(zhì)的效率n同時(shí)為了在不同的電流密度部位電解去除鍍液中不同雜質(zhì)或同一種雜質(zhì),要求電解用的陰極做成凹凸的表面(如瓦楞形),這樣可以提高電解處理的效果。但陰極上的凹處不宜太深,以防止電流密度過(guò)小而使雜質(zhì)不能在這些部位沉積或還原。


 ?、?電解過(guò)程中,要定時(shí)刷洗陰極:由于電解處理的時(shí)間一般都比較長(cháng),在長(cháng)時(shí)間的電解過(guò)程中,陰極上可能會(huì )產(chǎn)生疏松的沉積物,它的脫落會(huì )重新沾污鍍液,所以在電解一段時(shí)間后,應將陰極取出刷洗,把陰極上疏松或不良的沉積物刷去后再繼續電解。


 ?、?電解處理前,最好先做小試驗估計一下電解處理的效果和時(shí)間:有些雜質(zhì),用電解處理很難除去,若盲目地采用電解處理,可能花了很長(cháng)時(shí)間也不能使鍍液恢復正常。

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